Toujours plus petit : La course à la miniaturisation
Afin de condenser le nombre de composantes sur une micropuce, la miniaturisation est essentielle. Plusieurs avancées technologiques permettent d’y parvenir en industrie, avec des designs fixes et rigides. Dans un environnement de recherche où les designs évoluent à chaque itération, il est essentiel de pouvoir assurer cette flexibilité.
L’Institut interdisciplinaire d'innovation technologique (3IT) de l’UdeS s’est doté d’un appareil à la fine pointe en lithographie par faisceau d’électron qui permet toute la flexibilité nécessaire à un environnement de recherche ainsi qu’une qualité de niveau industriel, jusqu’à l’échelle nanométrique, pour repousser les limites de la micro/nano fabrication.
L’IQ vous propose une conversation sur le sujet avec Samuel René de Cotret, professionnel de recherche en lithographie par faisceau d'électrons au 3IT et Gregory Levieil, doctorant en génie électrique à l'UdeS.
